北京三和联科技有限公司官网-国产品牌，国内自研厂商

行业应用

为您提供高端微纳材料加工设备

二维材料生长

北京三和联坚持自主研发二维材料生长设备系列产品，国产二维材料生长机台应用方向：WS2、MoS2二维材料 4 英寸晶圆级生长。该栏目为您展示二维材料生长机台应用结果...

二维材料刻蚀

北京三和联致力于国产二维材料刻蚀设备研发与生产，三和联是一家国内二维电子薄膜材料刻蚀设备生产厂商。二维材料刻蚀机台主要应用：1. 2D 材料减层刻蚀，制备单层 ....

失效分析

北京三和联是中国国产失效分析设备厂商之一，该栏目向您展示国产反应离子刻蚀的功能，电感耦合等离子体刻蚀的功能，离子束刻蚀的功能及芯片失效分析刻蚀机台应用等...

Si基材料刻蚀

北京三和联科技有限公司专注于国产Si基材料刻蚀系列产品研发与生产，是国内坚持自主研发的二维材料刻蚀设备厂商之一。关于材料刻蚀方面的应用，包括国产Si基材料刻蚀...

三和联半导体设备应用详情 >>

北京三和联科技有限公司—专注于国产干法刻蚀设备研发

在半导体制造核心环节中，干法刻蚀设备的地位举足轻重。长期以来，高端市场被国际厂商主导，实现国产替代成为产业发展的关键。北京三和联科技有限公司，作为一家专注于自主研发的国内品牌，正致力于打破这一格局。

半导体设备等离子体预处理/清洗机

半导体制造中的等离子体预处理是该工艺利用电离气体清洁和活化表面，从而提高诸如引线键合和芯片贴装等工艺的附着力和可靠性。三和联自主研发“SHL”等离子体预处理/清洗机是国产优质品牌，欢迎您的咨询与莅临考察。

国产炉管化学气相沉积设备

炉管化学气相沉积（CVD）系统利用管式炉，通过气态前驱体的化学反应，在基材上沉积薄膜或涂层。北京三和联是自主研发炉管化学气相沉积设备厂商，SHL是国内优质化学气相沉积设备品牌。该工艺包括将基底置于管式炉内加热，并引入反应气体，反应气体在加热的基底上分解形成固体薄膜。这些系统对于制备高性能材料（例如半导体、碳纳米管和二维材料）至关重要。

离子束蚀刻和清洗

离子束清洗是一种将高能离子束导向基材以去除污染物的工艺。去除这些污染物可以增强附着力，并改善薄膜与基材之间的界面。在离子束蚀刻中，离子的能量较大，能够从基板表面溅射出材料。离子束蚀刻可用于减薄层或透过掩模定义特征。

电感耦合等离子体反应离子刻蚀（ICP RIE）

电感耦合等离子体反应离子刻蚀（ICP RIE）是一种先进的技术，旨在实现高刻蚀速率、高选择性和低损伤加工。由于等离子体可在低压下维持，因此还能提供出色的轮廓控制。

薄膜沉积设备

本文由北京三和联向您讲述半导体化学气相沉积设备市场趋势及标准外延工艺的薄膜沉积设备步骤。了解更多沉积设备请与我们取得联系：18910215538

蚀刻：SHL离子束蚀刻机

北京三和联科技有限公司是一家离子蚀刻机制造商，我们研发的离子束蚀刻机是一款多功能离子蚀刻设备。如果您对我们的离子束蚀刻机有兴趣请给我们致电：18910215538

等离子刻蚀机丨什么是等离子蚀刻或干蚀刻？

蚀刻是将一种材料从另一种材料表面去除的过程。北京三和联自主研发的国产等离子蚀刻机经过长期工艺验证和客户现场实际应用，在国内积和国际累了大量有效工艺参数和经验。

金属化合物刻蚀设备通常指的是在半导体制造、微电子、微机械系统（MEMS）以及精密零件加工等领域，用于精确去除金属化合物薄膜或材料的专用设备。这些设备主要采用干法刻蚀（Dry Etching）或湿法刻蚀（Wet Etching）技术。北京三和联科技有限公司专注于国产金属复合生长设备研发与生产的厂商，北京三和联（“SHL”）是国内金属化合物刻蚀设备优秀品牌。在材料生长设备领域，三和联有着独到的经验和技术。欢迎访问我们的官网，了解更多国内材料生长设备品牌相关信息。

硅基材料生长设备

什么是硅基材料刻蚀？本文将解答您关于该工艺的所有疑问，从所用设备到工艺本身。如果您仍然不确定，我们建议您阅读不同类型的（干法）蚀刻知识，以便更好地理解整个工艺。

国产薄膜沉积设备

这些数量可以帮助确定对于给定的应用是否最好使用特定的技术。北京三和联科技有限公司是一家自主研发国产薄膜沉积设备的制造商。经过长期工艺验证和客户现场实际应用，在国内积和国际累了大量有效工艺参数和经验，并可实现硅深刻蚀。北京三和联科技创国产薄膜沉积设备品牌，为国内薄膜沉积设备刻助力！北京三和联是一家薄膜沉积设备供应商。薄膜沉积框架的开发和生产是我们的主要业务之一。我们是物理沉积（PVD：物理气相沉积）方面的专家，无论是通过...

二维材料如何改变光刻和半导体制造

北京三和联致力于二维电子薄膜材料沉积设备研发与生产，在二维材料刻蚀设备方面，三和联一直坚持自主研发，联系电话：18910215538 半导体行业正面临一个关键时刻。随着硅基技术不断突破极限，寻找新材料以跟上创新步伐已变得至关重要。二维 (2D) 材料正是为此而生——这类极薄的材料有望彻底改变电子学和其他领域。

二维电子薄膜材料刻蚀设备

北京三和联一直致力于二维电子薄膜材料刻蚀设备的研发与国际市场份额开拓。作为国产干法刻蚀设备厂商，三和联在反应离子蚀刻的逆袭之路上艰苦创业，坚持自主研发。联系电话:18910215538

反应离子刻蚀机（RIE）在聚酰亚胺去除方面的介绍

北京三和联科技在失效分析设备国产化的浪潮中坚持自主研发，为拓展国产反应离子刻蚀机（RIE）市场积极奉献自己的力量。作为国产反应离子刻蚀机（RIE）厂商，北京三和联科技有限公司在国产失效分析设备的国际市场开拓、代替垄断品牌、降低国际价格及创建国产反应离子刻蚀机（RIE）品牌方面发挥了重要作用。

IC失效分析种静电对电子元件的影响有哪些？

北京三和联科技有限公司，专为失效分析实验室研发反应离子刻蚀机FA-RIE系列产品，助力失效分析实验室快速高效完成分析报告。北京三和联专业从事国产IC失效分析设备研发、生产、销售与售后服务。三和联有超过十年国内反应离子刻蚀机研发经验。失效分析实验室是奠定半导体产业发展的基石，三和联为您提供高效稳定的FA-RIE系列产品。近年来北京三和联公司研发部对失效分析实验室的投资逐步加大，为国产IC失效分析设备品牌发展助力。

简易了解反应离子刻蚀机（RIE）

在半导体行业中，芯片去层（Delayer）是一项至关重要的技术，广泛应用于失效分析、逆向工程和工艺研发等领域。随着芯片制造工艺的不断进步，器件尺寸持续缩小，结构日益复杂，市场行业去层人员稀缺及上手培训时间过长。北京三和联科技有限公司是一家自主研发国产反应离子刻蚀机厂商。经过长期工艺验证和客户现场实际应用，在国内积和国际累了大量有效工艺参数和经验，并可实现硅深刻蚀。北京三和联科技创国产反应离子刻蚀机品牌，为国内反应离子刻蚀机品牌刻助力！

浅谈反应离子刻蚀机（RIE）的干法刻蚀

北京三和联科技有限公司是一家专注于国产干法刻蚀设备研发与生产的厂商，北京三和联（“SHL”）是国内干法刻蚀设备优秀品牌。尤其在反应离子刻蚀设领域，三和联有着独到的经验和技术。欢迎访问RIE设备厂商北京三和联的官网，了解更多国产干法刻蚀设备更多信息

RIE的SEM样品制备

北京三和联科技有限公司专注于国产反应离子刻蚀机研发与生产的厂商，北京三和联（“SHL”）是国内反应离子刻蚀机优秀品。在失效分析设备领域，三和联有着独到的经验和技术。欢迎访问国产失效分析设备厂商北京三和联的官网，了解更多国内失效分析设备品牌相关信息。

国产刻蚀设备的崛起：替代浪潮背后的动力

北京三和联科技在刻蚀设备国产化的浪潮中坚持自主研发，为拓展国产刻蚀设备市场积极奉献自己的力量。作为国产刻蚀设备厂商，北京三和联科技有限公司重点研发项目包括：国产二维电子薄膜材料刻蚀设备、国产二维材料刻蚀设备、国产干法刻蚀设备、国产硅基材料刻蚀设备、国产金属化合物刻蚀设备等，在国产刻蚀设备的国际市场开拓、代替垄断品牌、降低国际价格及创建国产刻蚀设备品牌方面发挥了重要作用。

现代RIE反应离子刻蚀设备构成，精密工程的结晶

北京三和联科技有限公司作为国内推动干法刻蚀设备国产化中重要的一份子，在干法刻蚀设备国产化替代的浪潮中不断开拓创新，打磨自身产品，为我国科研事业贡献力量。RIE反应离子刻蚀设备，以其独特的物理化学协同机制，实现了对半导体、MEMS、光电子器件等制造中多种材料的高精度、高各向异性图案化加工。

设备的“血液”——RIE工艺气体

北京三和联科技有限公司反应离子刻蚀（RIE）设备支持H2、CH4、O2、N2、Ar、F6、CF4、CHF3、C4F8、NF3、Cl2、BCl3、HBr 9种工艺气体，可以根据客户的实际需求做定制化设计。工艺气体的选择是RIE工艺成功的关键，直接影响刻蚀速率、选择性、各向异性和表面形貌。

反应离子刻蚀RIE的核心原理——化学与物理的共鸣

北京三和联公司是中国国产反应离子刻蚀（RIE）设备厂商之一，多年来坚持自主研发，产品包括炉管式化学气相沉积、电容耦合等离子体增强化学气相沉积及物理气相沉积机台等领域，为我国RIE反应离子刻蚀设备品牌国产化，打破国际垄断助力。

RIE设备的演进之路

北京三和联多年以来专注于等离子体刻蚀机（RIE）国产化，中国离子束刻蚀机（IBE）品牌、市场开拓，自主研发国产刻蚀设备以及干法刻蚀设备国产品牌等方面的研发与生产，在离子刻蚀国产化及扩展中国离子刻蚀设备市场方面发挥着重要作用。

中国国产化RIE刻蚀设备的逆袭之路

北京三和联一直致力于新型国产薄膜设备（LPCVD）的研发与国际市场份额开拓。作为中国国产刻蚀设备厂商，三和联在中国国产化RIE刻蚀设备的逆袭之路上艰苦创业，坚持自主研发，为中国国产半导体设备的发展做出了贡献。为新型国产薄膜设备（LPCVD）市场份额开拓提供了强大支持。

RIE刻蚀设备-从美国垄断到中国国产化的前期背景

欢迎访问北京三和联官网，三和联是一家国产化RIE刻蚀设备公司，是一家国内干法刻蚀设备厂商。我们的RIE设备型号可分为3个，针对失效分析的客户需求，研发了专用设备。三和联为国产化品牌刻蚀设备助力。

关于三和联

技术团队

公司定位：北京三和联科技有限公司位于北京，面向研究所高校及创新型公司提供高端国产微纳材料加工设备。公司自主研发国产半导体设备，基于在真空、材料以及半导体设备方面的技术累计，向客户提供先进材料刻蚀、生长与表面处理设备及服务，提高客户技术水平、生产效率与竞争力；产品涵盖硅基材料、化合物半导体材料、以及二维薄膜材料应用方向。

技术团队：10人技术团队，均拥有十年以上的半导体/真空/等离子方面的从业经验。已搭建微纳工艺demo实验平台，包括：材料表面等离子体改性机台、RIE刻蚀机台、ICP刻蚀机台、PECVD化学气相沉积机台、PVD物理气相沉积机台以及IBE离子束刻蚀机台，其中核心工艺机台全部是自研生产的国产设备。

产品板块：三和联是一家自主研发及生产的国产半导体设备厂商。我们的产品涵盖：干法刻蚀、化学气相沉积、物理气相沉积、表面处理及辅件五大板块。目前面向市场的成熟设备及技术包括：离子束刻蚀、感应耦合等离子体刻蚀机台、反应离子刻蚀机台、桌面型等离子体刻蚀机、电容耦合等离子体增强化学气相沉积、炉管式化学气相沉积、物理气相沉积机台、等离子体预处理/清洗机、冷水机等。

联系方式：北京三和联可最大限度支持为您量身打造更适合您的设备，如您有需求或兴趣请致电：18910215538（7*24H值班经理）。

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