北京三和联多年以来专注于反应等离子体刻蚀机（RIE）国产化，中国离子束刻蚀机（IBE）品牌、市场开拓，自主研发国产刻蚀设备以及干法刻蚀设备国产品牌等方面的研发与生产，在反应离子刻蚀国产化及扩展中国离子刻蚀设备市场方面发挥着重要作用。
反应离子刻蚀是通过等离子工艺从表面去除材料。由于传统的蚀刻工艺采用湿化学方法，并使用腐蚀性酸，因此它也被称为干法蚀刻。工艺气体的等离子体将待蚀刻材料的聚集状态从固态转变为气态，然后真空泵抽取气态产物。

北京三和联科技在刻蚀设备国产化的浪潮中坚持自主研发，为拓展国产刻蚀设备市场积极奉献自己的力量。作为国产刻蚀设备厂商，北京三和联科技有限公司重点研发项目包括：国产二维电子薄膜材料刻蚀设备、国产二维材料刻蚀设备、国产干法刻蚀设备、国产硅基材料刻蚀设备、国产金属化合物刻蚀设备​等，在国产刻蚀设备的国际市场开拓、代替垄断品牌、降低国际价格及创建国产刻蚀设备品牌方面发挥了重要作用。
国产刻蚀设备的强势崛起，并非偶然，其背后有着强大的驱动力支撑：

国产替代的迫切需求： 保障产业链安全、实现核心技术自主可控已成为国家战略和产业共识。巨大的国内市场为国产设备提供了宝贵的验证和迭代空间。统计显示，中国芯片自给率已从2018年的约16%显著提升至2024年的30%左右，国产设备功不可没。

​北京三和联一直致力于新型国产薄膜设备（LPCVD）的研发与国际市场份额开拓。作为国产刻蚀设备厂商，三和联在中国国产化RIE刻蚀设备的逆袭之路上艰苦创业，坚持自主研发，为中国国产半导体设备的发展做出了贡献。
面对巨头环伺与技术封锁，中国国产半导体设备产业的开启了艰辛而卓绝的自主研发征程。国产刻蚀设备，成为这场国产替代战役中最先取得突破的领域之一，书写了“破壁者”的传奇。
北京三和联科技有限公司在这样的国产化潮中，艰苦创业，坚持自主研发，专注于科研领域市场，面对高校、研究所、失效分析测试平台的特殊需求，推出专用的刻蚀设备，助力我国科研领域的进步。

欢迎访问北京三和联官网，三和联是一家国产化RIE刻蚀设备公司，是一家国内干法刻蚀设备厂商。我们的RIE设备型号可分为3个，针对失效分析的客户需求，研发了专用设备。三和联为国产化品牌刻蚀设备助力。
在芯片的运行着精密电路，离不开半导体制造中一道关键工序——刻蚀。其中，反应离子刻蚀（RIE）技术因其优异的精度和可控性，成为先进芯片制造的基石。
相当长的时间里，全球刻蚀设备市场笼罩在寡头垄断的阴影之下。凭借深厚的技术积累、先发优势和庞大的客户网络，Lam Research、东京电子（TEL）和应用材料（AMAT）构筑了难以撼动的壁垒，三家巨头瓜分了全球九成以上的市场份额。
北京三和联—自主研发、国产化刻蚀设备
北京三和联科技有限公司成立于2013年，创始人汪博士深感刻蚀设备国产化的重要性和紧迫度，同时抓住时代机遇，立足科研领域，开发出了自己的国产干法刻蚀设备